Die Fotolithographie ist ein Verfahren, bei dem eine Metallschicht mit einer Schicht Fotolack überzogen wird. Anschließend wird die Fotolackschicht wie ein Film in einer Kamera durch eine Maske belichtet. So lassen sich auch sehr feine Strukturen übertragen.
Der belichtete Fotolack wird in einer Natronlauge entwickelt.
Er härtet nur dort aus, wo er belichtet wurde.
Beim anschließenden nasschemischen Ätzen wird nicht nur der nicht belichtete Teil des Fotolacks, sondern auch die Metallschicht darunter abgetragen. So verbleiben nur die Formen und Strukturen, die bei der Belichtung übertragen wurden. Diesen aus der Schicht herausgeätzten Bereich bezeichnet man auch als Mesa.
Dieses Verfahren wird v. a. bei der Fertigung vom Platinen und IC´s benutzt. Auch bei der Herstellung von Computerchips wird dieses Verfahren angewendet.
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